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用微波等离子体CVD制备C3N4薄膜
微波等离子体化学气相沉积 β-C3N4 薄膜
2007/10/26
文章摘要：
采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD), 使用高纯N2(99.999%)和CH4(99.9%)作反应气体, 在多晶Pt(99.99%)基片上沉积C3N4薄膜. X射线能谱(EDX)分析结果表明N/C原子比为1.0-1.4, 接近C3N4的化学比; X射线衍射谱(XRD)说明薄膜主要由β--和α--C3N4组成; X射线光电子谱(XPS)、傅...