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中国科学院宁波材料技术与工程研究所“功能碳素材料团队”以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标,最近在CVD(Chemical-Vapor-Deposition:化学气相沉积)单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。团队从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手,开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。与国外设备相比,成本降至百分之三十。团队自主开发了金刚石的生长工艺,即对籽晶进行特殊的处理,同时制备...
中国科学院宁波材料技术与工程研究所“功能碳素材料团队”以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标,最近在CVD(Chemical-Vapor-Deposition:化学气相沉积)单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。团队从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手,开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。与国外设备相比,成本降至百分之三十。团队自主开发了金刚石的生长工艺,即对籽晶进行特殊的处理,同时制备...
采用化学气相沉积技术(CVD),在乙炔气氛、500℃条件下制备了碳/高活性铝复合材料。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对复合材料的物相、形貌、组成进行了表征。结果表明,碳/高活性铝复合材料具有特殊的核壳结构及良好的耐水能力。
Purpose: The goal of this work is to compare the macro-stresses as well as mechanical and functional properties of the PVD and CVD coatings deposited on oxide and nitride ceramics tool. Design/method...
Purpose: The aim of the research was the investigation of the corrosion resistance and structure of the TiN, TiN+multiTiAlSiN+TiN, TiN+TiAlSiN+TiN, TiN+TiAlSiN+AlSiTiN coatings deposited by PVD proce...
以针刺整体毡为预制体制备C/SiC复合材料,在材料表面制备CVD SiC涂层,研究涂层试样氧化前、后的微观结构和室温弯曲性能。研究结果表明:CVD SiC涂层由球形颗粒熔聚体、裸露裂纹和附着裂纹组成,于1 400 ℃氧化时附着裂纹发生愈合;C/SiC试样的弯曲强度为119.9 MPa,涂层试样及其分别经1 000,1 200和1 400 ℃连续氧化5 h后,弯曲强度分别为188.5,41.0,60...
自古以来,璀璨夺目的金刚石一直是人们梦寐以求的珍物。而现代科学技术的发展,使人们进一步认识到金刚石集优异的力、热、光、声、电以及化学特性于一身,具有其他材料难以替代的广阔的应用前景。纳米材料特殊的性能展示着它诱人的魅力,我们采用自行设计并进一步改进的热温分布均匀的密排栅状直热丝CVD 法沉积纳米金刚石膜,为其发光性能及纳米金刚石涂层刀具的研究打下基础。
计算了薄膜试样不同方向的弹性模量,研究了织构和甲烷浓度对CVD自支撑金刚石薄膜的宏观残余应变的影响.结果表明,织构使CVD金刚石薄膜的弹性模量和宏观残余应变呈现各向异性.甲烷浓度的升高导致织构组分密度水平变化,使薄膜的弹性模量增大,从而降低残余应变;另一方面,杂质浓度的升高增大宏观残余应变.改变薄膜沉积工艺参数可调整织构,从而调节薄膜的残余应力.
该课题为碳/碳C/C复合材料是碳纤维增强碳基复合材料的研发。该项目在国内首次应用稳健设计方法研究C/C复合材料快速CVD工艺方法。稳健设计方法在国外已被成功地应于工程实践。在电子电路设计、汽车刹车水平设计、产品设计中获得有效应用。将稳健设计方法应用于碳/碳复合材料快速CVD工艺在国内属于创新研究。用基于稳健设计方法的碳/碳复合材料CVD工艺方法研制的碳/碳复合材料具有良好的摩擦磨损性能,在本研究...
We have studied the nucleation and growth processes in a chemical vapor deposition (CVD) diamond film using a tomographic electron backscattering diffraction method (3D EBSD). The approach is based ...
以Fe/Al2O3作催化剂, 采用化学气相沉积法在400℃下催化裂解乙炔合成了纳米碳材料, 为了去除催化剂载体和残留的催化剂颗粒, 进一步将产物在60℃下于36%的浓盐酸中回流48 h, 并通过扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和X射线衍射仪对产物进行了表征. 结果表明: 在400℃下合成了直径在15~50 nm之间、石墨片层呈层状堆积结构的内包Fe3C的纳米洋葱状富勒烯. 进一步将产物在110...
论述了制备红外用CVD ZnS多晶材料的化学气相沉积工艺和热等静压处理工艺。针对CVD ZnS多晶材料具备优良的光学和力学性能,采用化学气相沉积工艺和热等静压处理技术成功研制出大尺寸多晶材料,其最大尺寸达到250mm×15mm。测试了CVD ZnS样品的各项光学、力学性能指标。样品的全波段透过率均接近ZnS材料的本征水平,折射指数均匀性优于2×10-5,在1.06μm的吸收系数为2×10-3cm-...
摘要基于负载法Fe-MgO体系催化剂研究了化学气相沉积(CVD)法在流化床反应器中反应温度和时间对单壁碳纳米管(SWCNTs)生长的影响。通过气相色谱对尾气进行实时在线分析,获得了CH4在反应过程中的转化率随时间的变化规律。并对不同反应温度和反应时间所获产品进行了TEM、Raman和TGA等表征。结果表明,900℃是最佳的反应温度,反应温度过低会降低催化剂活性,反应温度过高则容易使催化剂过快失活。...
摘要根据金刚石厚膜的实际应用要求,建立了EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法,制备出直径为80mm,膜厚为1mm以上的大尺寸高品质的均匀金刚石厚膜,其膜厚不均匀性小于5%,热导率不均匀性小于10%,膜片中部和边缘磨耗比基本相同,大约在1.5×105左右。同时研究了制备参数对膜的品质和膜厚均匀性的影响。结果表明:甲烷浓度、工作气压...

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