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《膜科学与技术》出版道德声明
《膜科学与技术》 中文核心期刊 膜科学 出版道德声明
2022/6/15
《膜科学与技术》投稿须知
《膜科学与技术》 中文核心期刊 膜科学 投稿须知
2022/6/15
用DC-PCVD装置对钢沉积Si3N4薄膜
2007/7/28
期刊信息
篇名
用DC-PCVD装置对钢沉积Si3N4薄膜
语种
中文
撰写或编译
作者
吴大兴,杨川,高国庆等
第一作者单位
刊物名称
金属学报
页面
1997年3月,Vol.33,No.3
出版日期
1997年
月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
直流等离子体法沉积氮化硅薄膜形成机理及性能研究
期刊信息
篇名
A novel TiO2/ ZrxTi1-xO2 composite photocatalytic films
语种
英文
撰写或编译
撰写
作者
Suwen Liu,Chunfeng Song,Mengkai Lu*,ShufenWang
第一作者单位
山东大学
刊物名称
Catalysis Communications,
页面
4, 343- 346, 2003
出版日期
20...