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搜索结果: 1-7 共查到Ge-on-Si相关记录7条 . 查询时间(0.093 秒)
We present a vertical-illumination-type 100% Ge-on-Si photodetector with the responsivity up to 0.93 A/W at λ~1.55 μm. The 10Gbps photoreceiver with a fabricated 60 μm-diameter device exhibits high se...
利用固源分子束外延(SSMBE)生长技术, 在Si(111)衬底上预沉积不同厚度(0、0.2、1 nm)Ge, 在衬底温度900 ℃, 生长SiC单晶薄膜. 利用反射式高能电子衍射仪(RHEED)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等实验技术, 对生长的样品进行了研究. 结果表明, 预沉积少量Ge(0.2 nm)的样品, SiC薄膜表面没有孔洞存在, AFM显示表面比较平整, ...
Ge on Si p-i-n photodiodes are characterized on wafer in the time domain at a wavelength of 1550 nm.The photodiode output signal is sampled by a flip flop. At a bit rate of 25 Gbit/s and a Pseudo Rand...
Ge-on-Si waveguide integrated photodetectors including Metal-Semiconductor-Metal (MSM), vertical PIN and lateral PIN diodes are reviewed.
We report Ge-on-Si photodetectors fabricated by RPCVD showing 3-dB bandwidth of 33 GHz for the window size of 20 μ m-diameter at a wavelength of 1550 nm.
期刊信息 篇名 The photodetector of Ge nanocrystals/Si for 1.55 um operation deposited by pulsed laser deposition 语种 日文 撰写或编译 撰写 作者 Xiying Ma,Baohe Yuan,Zhijun Yan 第一作者单位 绍兴文理学院 刊物名称 Optics Communications 页面...
Metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitors fabricated on Ge-implanted Si have been investigated by using C-V and G-V measurements. The control sample on pure Si substrate yielded normal C-V and G-V ch...

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