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中国科学院上海硅酸盐研究所专利：一种X射线透视原位实时观察装置.
中国科学院上海硅酸盐研究所专利：可见-近红外光波段吸收器。
中国科学院上海硅酸盐研究所专利：一种双弧面碳化硅反射镜镜坯及其制备方法。
中国科学院上海硅酸盐研究所专利：一种具有复杂轻量化结构的碳化硅反射镜镜坯的烧结温度场调控方法。
中国科学院上海硅酸盐研究所专利：超厚陶瓷透镜、超厚陶瓷透镜的制造方法及激光照明装置。
中国科学院地理科学与资源研究所专利：一种折叠式棱镜对中杆
中国科学院地理科学与资源研究所 专利 折叠式 棱镜对中杆
2024/6/24
中国科学院地理科学与资源研究所专利：一种折叠式棱镜对中杆。
质谱成像技术(massspectrometry imaging,MSI)是基于质谱发展起来的一种分子影像技术，通过直接扫描生物样本，可以同时获得多种分子的空间分布特征，具有免荧光标记、不需要复杂样品前处理等优点，已经成为基础医学、药学、微生物学等研究领域关键技术之一。
光电探测器将入射光转换为可调制的电信号，在自动驾驶、健康监测、生物医学成像、光通信、军事安全和夜视等领域具有重要的作用。然而，市面上的光电探测器主要由无机半导体制成，如Si、Ge和InGaAs等。这些半导体具有高温加工和柔性不兼容的缺点。最近，有机无机杂化钙钛矿材料因其固有的特性，如灵活性、溶液加工性、低成本、可调带隙、高吸收系数、低激子结合能、高载流子迁移率和长载流子扩散长度等，已成为光电探测的...
近日，中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室张斗国教授课题组提出并实现了一种基于矢量光场调控原理的动量空间偏振滤波器件。将该滤波器件安装于传统无标记光学显微镜的出射端，它可以对出射光场的背景噪声进行高效抑制，进而采集到单个纳米尺度物体的高对比度、高信噪比光学显微图像。研究成果以“Cascaded momentum-space-polarization filters enable...
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种可变曲率反射镜装置
中国科学院大连化学物理研究所 专利 可变曲率 反射镜装置
2024/1/30
本发明属主动光学技术领域，一种可变曲率反射镜装置，包括反射镜、支撑环、驱动环、压电陶瓷驱动器、后盖板，驱动环为环状结构，支撑环为带固定臂的环状结构，支撑环通过固定臂与后盖板相固接，在支撑环和后盖板之间依次设置有反射镜、驱动环和压电陶瓷驱动器；压电陶瓷驱动器的一端与后盖板相贴接，另一端与驱动环相贴接；反射镜的工作面一侧与支撑环相贴接，另一侧与驱动环相贴接。其主要思路是利用一个压电陶瓷驱动器产生推力，...
一种以太阳光为曝光光源制作微流控芯片的方法及其应用，本发明以自然界中最易获得的太阳光作为曝光光源，避免了常规光刻中较为昂贵的光刻机的使用，待曝光的光刻胶平板放在与太阳光相垂直的方向曝光即可，通过UV能量检测器校正阳光下的曝光时长，可以得到光刻胶上各种尺寸微图案良好的曝光结果；这种方法简易、廉价、易于操作、环境友好，而且可以进行芯片的批量生产，期望有益于仪器购买基金不足或处于起步阶段的实验室进入到微...
本发明涉及质谱电离源中真空紫外灯的在线或离线清洗，是一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置，包括密封的电离腔，电离腔的侧壁上设置有真空紫外灯安装口，电离腔的侧壁上设有一贯穿电离腔壁面的导气管，导气管的出口端位于真空紫外灯下方，导气管入口端与臭氧发生器的气体出口相连，臭氧发生器气体入口与氧气源连接。本发明中利用臭氧发生器产生的含有高浓度臭氧气体在一定气压和温度下对紫外灯透镜上吸附的有机物氧化反应，实现对灯...
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置
中国科学院大连化学物理研究所 专利 紫外灯 灯头透镜 外表面 清洗装置
2024/1/29
本发明涉及质谱电离源中真空紫外灯的在线或离线清洗，是一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置，包括密封的电离腔，电离腔的侧壁上设置有真空紫外灯安装口，电离腔的侧壁上设有一贯穿电离腔壁面的导气管，导气管的出口端位于真空紫外灯下方，导气管入口端与臭氧发生器的气体出口相连，臭氧发生器气体入口与氧气源连接。本发明中利用臭氧发生器产生的含有高浓度臭氧气体在一定气压和温度下对紫外灯透镜上吸附的有机物氧化反应，实现对灯...
2024年1月29日，由中国科学院大连化学物理研究所仪器分析化学研究室微型分析仪器研究组（105组）耿旭辉研究员、关亚风研究员团队研制的单/双通道全海深11,000米级原位微生物、有色溶解有机物（CDOM）和叶绿素荧光传感器，于2023年10月28日至2024年1月12日在探索一号菲律宾海公海科考航次中搭载中国科学院深海科学与工程研究所的深渊原位科学实验站，在菲律宾海沟开展海试，进行了5次海底试验...
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种光学基片镀膜前的清洗方法
中国科学院大连化学物理研究所 专利 光学基片 镀膜前 清洗
2024/1/22
本发明涉及一种光学基片镀膜前的清洗方法。该操作方法采用正庚烷代替乙醚和乙醇按一定比例配成混合清洗液，滴在光学清洗无尘布上对光学石英玻璃进行擦拭清洗。在高亮度光学检测灯的照射下，观察基片的去污情况，从而达到基片清洁的目的。用此方法清洗镀膜前的光学基片可以提高光学薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值，提高光学薄膜的使用寿命。