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采用磁控溅射法和原位退火工艺在钠钙玻璃衬底上制备Mg2Si薄膜。首先在钠钙玻璃衬底上交替溅射沉积两层Si、Mg薄膜，冷却至室温后原位退火4h，制备出一系列Mg2Si薄膜样品。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对所得薄膜样品的晶体结构和表面形貌进行表征，讨论了退火温度和溅射Si/Mg/Si/Mg时间对制备Mg2Si薄膜的影响。结果表明，采用磁控溅射法在钠钙玻璃衬底上交替溅射两层Si...

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